授業コード 30099300 単位数 2
科目名 特別講義A(知的財産法Ⅲ) クラス
履修期 前期授業 カリキュラム *下表参考
担当者 申 賢哲 配当年次 *下表参考

授業の題目 知的財産法Ⅲ
学修の概要 知的財産法は、技術、デザイン、ブランドなどの知的財産を保護し、その適切な利用を図ることにより産業や文化の発展を支える法分野である。本講義では、意匠法、商標法および不正競争防止法を取り上げ、製品デザイン、商品・サービスの標識、営業秘密などの保護に関する基本的な仕組みを学び、それぞれの制度の内容と意義について体系的に理解する。
学修の到達目標 ・意匠法、商標法および不正競争防止法の目的や役割を理解し、それぞれの制度の基本的な仕組みについて説明できるようになる。
・製品デザイン、商品・サービスを識別する標識、営業秘密や商品表示などの保護対象について理解し、それぞれの保護制度の内容を説明できるようになる。
・意匠権および商標権の取得手続や権利内容について理解し、知的財産の保護と利用の基本的な仕組みを説明できるようになる。
・不正競争防止法による営業秘密や商品表示等の保護の仕組みを理解し、公正な競争秩序を維持するための法制度の意義について説明できるようになる。

*本講義の内容は、知的財産に関する基礎的知識を扱うものであり、知的財産管理技能検定(国家資格)の学習内容にも関連する。
授業計画 第1回 <意匠法①:法目的と保護対象>
意匠法の目的および制度の概要を理解し、どのようなデザインが意匠として保護されるのかを説明できるようになる。
第2回 <意匠法②:登録要件>
意匠登録のために必要な新規性や創作非容易性などの要件を理解し、登録の可否が問題となる場合を説明できるようになる。
第3回 <意匠法③:類似範囲の特定と類否判断>
意匠権の効力が及ぶ「類似」の概念を理解し、他社製品が自社権利の範囲内に侵入しているか、または自社が他社の権利を侵害していないかを論理的に説明できるようになる。
第4回 <意匠法④:応用的な保護制度と新しい保護対象>
関連意匠や組物による「シリーズ保護」と、画像・建築物・内装といった「非物品」への保護拡大を理解し、多角的なデザイン保護戦略を立案できるようになる。
第5回 <意匠法⑤:効力と侵害、救済、利用>
意匠権の効力の範囲や存続期間を理解し、どのような場合に意匠権侵害が成立するのかを説明できるようになる。
第6回 <商標法①:商標の機能と種類の識別>
商標の4大機能を理解し、文字・ロゴだけでなく、音や色彩、位置商標などの多様なブランド表示の法的保護の可能性を検討できるようになる。
第7回 <商標法②:登録要件>
商標登録に必要な識別力や登録拒絶事由を理解し、どのような商標が登録可能であるかを説明できるようになる。
第8回 <商標法③:指定商品・役務と権利範囲の確定>
商標が守るべき「カテゴリー(区分)」の概念を理解し、ビジネスの拡大予測に合わせた適切な権利範囲を特定できるようになる。
第9回 <商標法④:商標権のメンテナンスと不使用リスク管理>
10年ごとの更新制度を理解し、かつ「登録していても使っていなければ取り消される」という不使用取消審判のリスクを回避する運用ができるようになる。
第10回 <商標法⑤:効力と侵害、救済、利用>
商標権の効力の範囲や存続期間を理解し、類似判断やどのような場合に商標権侵害が成立するのかを説明できるようになる。
第11回 <不正競争防止法①:概要及び周知表示混同行為>
不正競争防止法の全体像を理解し、同法が商標法や意匠法など他の知的財産法とどのような関係にあるのかを説明できるようになる。そのうえで、周知表示混同惹起行為の内容について理解し、説明できるようになる。
第12回 <不正競争防止法②:著名表示冒用行為及び商品形態模倣行為>
著名表示冒用行為や商品の形態模倣行為について理解し、それぞれが不正競争に該当する場合の内容を説明できるようになる。
第13回 <不正競争防止法③:営業秘密の不正取得等>
営業秘密の要件(秘密管理性・有用性・非公知性)を理解し、営業秘密侵害が問題となる場合を説明できるようになる。
第14回 <不正競争防止法④:データ保護とドメイン名の不正取得対策>
限定提供データや技術的制限手段に関する不正行為について理解し、それぞれの内容を説明できるようになる。
第15回 <不正競争防止法⑤:信用毀損と原産地誤認表示の回避>
競合他社に対する虚偽の情報の流布や、産地偽装・品質誤認を招く表示がもたらす法的リスクを回避し、クリーンなマーケティング活動を管理できるようになる。
授業外学習の課題 ・予習内容:参考文献の該当ページを事前に予習するとともに、自主的かつ主体的に関連文献や裁判例を調査し取り組むこと(2時間程度)。
・復習内容:毎回の講義の内容でわからないことがあれば、レジュメや参考文献をベースに各回の内容を復習すること(2時間程度)。
履修上の注意事項 ・知的財産法に関心のある学生であれば、意匠法・商標法・不正競争防止法をこれまで学んだことがなくても受講を歓迎する。
・特別講義A(知的財産法Ⅰ)や特別講義A(知的財産法Ⅱ)の履修は必須条件ではないが、履修している場合には本講義の理解がより深まる。
・授業では知的財産法の条文を参照するため、六法等(知的財産法の条文が確認できるもの)を持参することが望ましい。
・公認欠席は欠席として扱うが、期末試験の受験要件には影響しないよう配慮する。
・公認欠席の場合には、必要に応じて個別に対応する。
・授業の円滑な進行のため、私語は慎むこと。

<注>上記の授業計画は目安であり、講義の進捗状況等により内容を変更する場合がある。 
成績評価の方法・基準 ・成績は、平常点40点とレポート試験60点の合算とする。
・レポートでは、本講義で扱った意匠法、商標法および不正競争防止法の基本的な制度についての理解を踏まえ、具体的な問題について論理的に説明できているかを評価する。
・レポートの具体的な課題および提出方法については、授業中に指示する。
・平常点は、出席カードの記載内容や質、小テストなどにより評価する。
テキスト ・特定の教科書は使用せず、各回、講義内容に沿った資料を配布する。
参考文献 ・茶園成樹編『意匠法〔第2版〕』(有斐閣、2020年)
・茶園成樹編『商標法〔第3版〕』(有斐閣、2025年)
・茶園成樹編『不正競争防止法〔第2版〕』(有斐閣、2019年)
・愛知靖之=前田健=金子敏哉=青木大也『知的財産法〔第2版〕』(有斐閣、2023年)
・茶園成樹・田村善之・宮脇正晴・横山久芳編『商標・意匠・不正競争判例百選〔第2版〕』(有斐閣、2020年)
主な関連科目 ・特別講義A(知的財産法Ⅰ)、特別講義A(知的財産法Ⅱ)
オフィスアワー及び
質問・相談への対応
・授業に関する質問は、授業終了後およびメールで随時受け付ける。また、水曜日のオフィスアワー(14時~17時)においても対応する。なお、期末試験の内容に関する質問については、オフィスアワーにおいて個別に対応する。

■カリキュラム情報
所属 ナンバリングコード 適用入学年度 配当年次 身につく能力
知識・技能 思考力 判断力 表現力 協創力
法学部法律学科(発展科目) 2014~2014 2・3・4 - - - - -
法学部法律学科(発展科目) FLLA20943 2018~2023 2・3・4 - - - - -
法学部法律学科(演習) 31300 2024~2026 2・3・4 -